解决铝的光化学蚀刻—上篇

　　铝的加工

　　铝的密度低，再加上其他特性，如优异的导热导电材料，使其成为电缆和热交换器的优选材料。但加工这种金属时，这种特性也成为唯一致命的弱点。如，光化学蚀刻工艺中，铝会与腐蚀性化学品反应，开始放热，释放出来热能。这会对光化学蚀刻工艺的效率和准确性造成次生的、附带的影响。因此，由于铝的放热性，阻碍了对铝的光化学蚀刻工艺的有效使用。同时，由于铝具有耐腐蚀性，而光化学腐蚀又是一种基于选择性腐蚀的加工工艺。

　　铝是两性的，可与酸类或碱类物质反应。因此，可用酸性酸性或碱性蚀刻剂进行光化学加工，但两种应用都存在挑战。

                                

　　严格的工艺控制是成功进行光化学蚀刻的关键。铝在蚀刻过程中的高放热反应，有时会破坏光学工工具，导致蚀刻比较粗糙。事实上，放热反应会导致防蚀剂被抽离铝板，蚀刻剂从防蚀刻剂下面渗出，影响蚀刻效果，导致粗糙的、锯齿状的、粒状蚀刻边缘，远非光化学蚀刻工艺通常具有的光滑、平直的蚀刻外形。

　　对铝进行有效蚀刻的有些研究侧重于所使用的蚀刻剂，另一些则关注温度控制，而更多的是对金属进行清洁和准备。

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